Revêtements PVD

Emboutissage et formage

Specialistes en emboutissage et formage

L’utilisation de revêtement PVD sur ce type d’application, pour du travail a froid et a chaud, est nécessaire, car ils aident à combattre l’abrasion et l’adhésion du matériel travaillé sur les outils.
Les propriétés principales des revêtements, axées sur ce type d’applications, sont la dureté, sans perte de ténacité, qui aide à augmenter la résistance a l’usure, et des coefficients de friction minimaux qui facilitent l’écoulement du matériau en retardant l’apparition de grippages (adhérence).

Solutions

Chez Metal Estalki, nous n’appliquons pas seulement un revêtement de qualité, mais nous le renforçons en l’adaptant aux besoins de production de l’utilisateur, en l’accompagnant des solutions suivantes :
Service de préparation de surface
Service d’optimisation de surface des outils, Améliore les propriétés tribologiques en réduisant la friction.

Processus Duplex

Nitruration ionique qui améliore l’adhésion du revêtement au substrat.
Processus SBF
Préparation axée sur les outils de découpe fine, améliore la qualité de surface du substrat sans endommager les arêtes de coupe.
Revêtements durs terminés en DLC
Couche antiadhésive de DLC, qui aide à prévenir l’apparition d’adhésions générées par un manque de lubrification pendant le processus de production ou par des, matériaux ayant une tendance à l’adhésion.

Surface revêtue vs pièce en acier inoxydable 316L Revêtement X-ILURA-F (Ra=0,05-0,06 microns)
Coefficient de friction : 0,25

Surface revêtue vs pièce en acier inoxydable 316L Revêtement X-Ilura-Plus-F (Ra 0,05-0,06 microns) Coefficient de friction 0,15

Liste des revêtements :

Titre

Structure

Composants

Nanodureté

T° processus

T° max. fct.

Épaisseur

Coef. friction

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Titre

Structure

Composants

Nanodureté

T° processus

T° max. fct.

Épaisseur

Coef. friction

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