Las siglas PVD vienen de Physical Vapour Deposition, o lo que es lo mismo, deposición física en fase de vapor. Los recubrimientos MEX se llevan a cabo mediante este proceso, que es el más exitoso de acuerdo con la creciente cuota de mercado e innovaciones presentadas en los últimos 20 años. Durante el proceso, se calientan los targets a través de un arco eléctrico guiado por un campo magnético. La temperatura se eleva hasta tal punto que parte de las partículas del cátodo sólido subliman, evaporándose en la cámara en vacío. Estas partículas, altamente ionizadas son dirigidas a los sustratos por la aplicación de un potencial entre targets (cátodo) y sustratos (ánodos) a través de un plasma en vacío y reaccionando con el gas presente en la cámara, hasta conseguir la composición deseada.
A lo largo del proceso, se alcanza una temperatura máxima de entorno a 500º C, por ello es altamente recomendable que todos los sustratos a recubrir hayan sufrido un tratamiento térmico previo a una temperatura superior a 500 ºC y relajación de tensiones.
