Revêtements PVD

Alimentaire

Les revêtements PVD aident à améliorer la productivité des machines qui traitent ou emballent les aliments.

Ce type d’applications est généralement soumis à un large éventail d’environnements agressifs qui entravent/compliquent une production stable. De plus, ils offrent une haute résistance à l’abrasion, grâce à leur dureté élevée, d’excellentes propriétés antiadhésives et une amélioration tribologique avérée.

Le fait que les revêtements PVD soient inertes garantit l’hygiène aux utilisateurs.

Voir notre liste de revêtements

Titre

Structure

Composants

Nanodureté

T° processus

T° max. fct.

Épaisseur

Coef. friction

TIN – F

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

TIN – F

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

TIN – F

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

TIN – F

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

TICN – F

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

TICN – F

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

TICN – F

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

TICN – F

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

CRN-F

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

CRN-F

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

CRN-F

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

CRN-F

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

CROMVIC

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

CROMVIC

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

CROMVIC

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

CROMVIC

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15 Titre

Structure

Composants

Nanodureté

T° processus

T° max. fct.

Épaisseur

Coef. friction

Voir le fichier

TIN – F

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

TIN – F

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

TIN – F

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

TIN – F

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

TICN – F

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

TICN – F

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

TICN – F

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

TICN – F

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

CRN-F

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

CRN-F

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

CRN-F

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

CRN-F

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

CROMVIC

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

CROMVIC

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

CROMVIC

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15