Revêtements PVD

Emboutissage et formage

Emboutissage et formage

L’utilisation des revêtements PVD dans ce type d’applications, aussi bien à froid qu’à chaud, est essentielle, car ils aident à lutter contre l’abrasion et l’adhérence du matériau de travail sur les outils.

Les principales propriétés des revêtements, conçus pour ce type d’applications, sont leur dureté, sans perte de ténacité, ce qui permet d’augmenter la résistance à l’usure, ainsi que de faibles coefficients de friction favorisant l’écoulement du matériau et retardant l’apparition de grippages (adhérence).

Solutions

Chez Metal Estalki, nous ne nous contentons pas d’appliquer un revêtement de qualité, nous l’optimisons en l’adaptant aux besoins de production de l’utilisateur, en l’accompagnant des éléments suivants:

Service de préparation de surface

Service d’optimisation de la surface des outils. Améliore les propriétés tribologiques en réduisant la friction.

Processus Duplex

La nitruration ionique améliore l’adhérence du revêtement au substrat.

Processus SBF
La préparation axée sur les outils de découpe fins améliore la qualité de la surface du substrat sans endommager les arêtes de coupe.

Revêtements durs à finition DLC

Couche antiadhésive, en DLC, qui aide à prévenir l’apparition d’adhérences générées par un manque de lubrification pendant le processus de production ou par des matériaux ayant tendance à adhérer.

Surface revêtue contre à une pièce en acier inoxydable 316L
Revêtement X-ILURA-BF (Ra=0,05-0,06 μm)
Coefficient de frottement : 0,25

Surface revêtue contre pièce en acier inoxydable 316L
Revêtement X-ILURA-PLUS-BF (Ra=0,05-0,06 μm)
Coefficient de frottement : 0,15

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Titre

Structure

Composants

Nanodureté

T° processus

T° max. fct.

Épaisseur

Coef. friction

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Titre

Structure

Composants

Nanodureté

T° processus

T° max. fct.

Épaisseur

Coef. friction

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