Recubrimientos PVD

Guía de recubrimientos

Denominación

Estructura

Componentes

Nanodureza

Tª de proceso

Tª máx. de trabajo

Espesor

Coef. de fricción

Denominación

Estructura

Comp

TIN

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.55

TIN

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.55

TIN

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.55

TIN

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.55

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Monocouche

Ti, N

2400 HV

450 °C

600 °C

2.5 µm±0.5

0.45

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.2

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.2

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.2

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.2

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

Multigradient

Ti, C, N

3700 HV

450 °C

400 °C

2.5 µm±0.5

0.18

CRN

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm ±0.5

0.3

CRN

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm ±0.5

0.3

CRN

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm ±0.5

0.3

CRN

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm ±0.5

0.3

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

Monocouche

Cr, N

1800 HV

450 °C

800 °C

3 µm±0.5

0.2

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

ZRN

Monocouche

Zr, N

2000 HV

450 °C

550 °C

2.5 µm±0.5

0.4

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.6

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.6

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.6

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.6

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.25

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.25

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.25

Monocouche

Al, Ti, N

3800 HV

450 °C

800 °C

2.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.55

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.55

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.55

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.55

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.25

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Multicouche - nanostructuré

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1100 °C

9 µm±2

0.15

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.6

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.6

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.6

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.6

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.3

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.3

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.3

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.3

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Monocouche

Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.3

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradient

Al, Ti, Si, N

4500 HV

450 °C

1200 °C

2.5 µm±0.5

0.25

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

VIC

Monocouche

a-C:H:Me

2000 HV

450 °C

400 °C

1.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

Bicouche

CrN + a-C:H:Me

2800 HV

450 °C

900 °C

2.5 µm±0.5

0.15

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*

*