TIALCROME DUPLEX – BF

Recubrimiento desarrollado a partir de la familia AlCrN se caracteriza por su resistencia al desgaste, alta resistencia térmica, estabilidad química y alta resistencia a la oxidación. Especialmente recomendado para sustratos de HSS, gracias a su gran adhesión al sustrato.
Proceso Duplex: Nitruración iónica que se realiza antes de la fase del recubrimiento, para la mejora de la adhesión del recubrimiento al sustrato.

Propriétés du revêtement

Structure

Multinanogradiente

Température du processus [ºC]

450

Coefficient de frottement

0.25

Composants

Ti, Al, Cr, N

Température maximale de travail [ºC]

1000

Rugosité

0.04

Nanodura [HV]

4200

Épaisseur [µm]

3.5 µm±0.5

Variantes de revêtement

Titre

Structure

Composants

Nanodura

T° processus

T° max. fct.

Épaisseur

Coef. friction

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.55

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.55

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.55

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.55

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.20

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Multinanogradiente

Ti, Al, Cr, N

4200 HV

450 °C

1000 °C

3.5 µm±0.5

0.25

Titre

Structure

Composants

Nanodura

T° processus

T° max. fct.

Épaisseur

Coef. friction

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